CVD - Chemical Vapour Deposition
CVD - Chemical Vapour Deposition
CONDIAS ist weltweit führend in der Herstellung von polykristallinen Diamantschichten für unterschiedliche Anwendungen wie Diamantelektroden oder Verschleißschutz. Mithilfe unserer eigenentwickelten CVD-Reaktoren entstehen bei 2200 bis 2600°C
leitfähige Diamantelektroden. Das Alleinstellungsmerkmal von CONDIAS ist die Produktion auf sehr großen Flächen.
Nur wir sind in der Lage auf einem halben Quadratmeter Diamantschichten herzustellen, und das mit mehreren Maschinen. Wir arbeiten weltweit mit unterschiedlichen Partnern an technologischen Projekten zusammen, in denen sowohl unsere Produkte als auch unser Know-How geschätzt ist um Technologien für unsere Partner weiter zu entwickeln.
Die Herstellung leitfähiger Diamantschichten erfolgt in einer aktivierten Gasphase. Bei dieser chemischen Gasphasenabscheidung (Chemical Vapour Deposition, CVD) wird die aus Wasserstoff
und Zugaben von Methan
— für die Diamantbildung — und einer gasförmigen Borverbindung bestehende Gasphase durch heiße Drähte (Hot Filament, HF) aktiviert.
Die Elektrodengrundkörper werden nach einer speziellen Vorbehandlung mit dieser Gasphase in Kontakt gebracht. Bei Einhaltung geeigneter Grundkörpertemperaturen zwischen 600°C und 900°C
und Aktivierungsbedingungen bildet sich auf der Elektrodenoberfläche eine zusammenhängende, polykristalline Diamantschicht aus, in die während der Abscheidung zusätzlich Bor
eingebaut wird.
Durch die Menge des eingebauten Bors lässt sich die Leitfähigkeit dieser HFCVD-Diamantschichten für die Anwendung alsDIACHEM®-Elektroden einstellen.
Unsere CVD-Reaktoren ermöglichen die Beschichtung auf Flächen bis zu 100 x 50 cm².
CONDIAS GmbH
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D-25524 Itzehoe
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