RED OX® - Reinigung von Wafern und Vorrichtungen

Verunreinigungen auf Wafern, vor allem metallische Partikel, können zu großen Schäden führen. Sie können Prozesse bei den weiteren Behandlungsschritten stören. Oft haften die Partikel durch elektrostatische Adsorption an dem Wafer und können kaum entfernt werden. Je kleiner die Partikel sind, desto schwieriger ist ihre Entfernung. Unsere Diamantelektroden entfernen auch kleinste Partikel.

RED OX®-Zelle ist mit hoch leistungsfähigen DIACHEM®-Elektroden ausgestattet. Sie ist für den Einsatz in Reinigungssystemen der Halbleiterindustrie geeignet. Wir konstruieren auch skalierbare Zellen, die unsere Diamantelektroden enthalten. So sind Lösungen für jedes System möglich.